单层氮化硼薄膜(HBN)

英文名:Monolayer boron nitride film(HBN)
Cas号:
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别 名
Cas号
M D L
分子式
分子量
产品参数 盖率:100%

基底:SiO2/Si

晶粒尺寸:>4 um



应用

HBN薄膜可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层,以及电子的隧道阻挡层,使其具有广泛的应用,例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片。
性状
贮存 常温干燥避光密封保存,保存期限1年。
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